X射线光电子能谱（XPS）技术利用X射线激发材料表面， 10纳米范围内的电子逃逸并被检测，通过是分析其结合能和强度的分布从而测定样品中的元素构成及其化学态。借助于离子束深度剖析，X射线光电子能谱还能实现纳米尺度的从表面往材料内部的检测，广泛应用于薄膜各层及界面分析。

戴博络提供全套的联用分析技术解决方案，XPS表面分析结果表明Y表现出氧化态和单质共存，而Ni只表现出单质质；XPS定量结果与ICP比较，Ni，Y含量存在比较大的区别；更进一步通过电子显微成像检测，STEM和EDS清晰地给出碳纳米管和金属颗粒的分布行为，存在着Y包裹Ni的形态。联系我们了解相关应用案例更详细的信息。